RSPM
Real Surface Particle Manager
출시 배경 :
종래 기술 대비, 첨단 부품 생산 현장 개선 혁신 가치 창출
① 3현 주의 (현장,현물을 현실적으로 보고 판단) 사상 반영
② 외부 영향 인자( ×)실시간 표면 이물 검사 정보 제공
![0327103226.png](https://static.wixstatic.com/media/3a169b_074b474b6cc349d597fe73fd14c5840f~mv2.png/v1/fill/w_171,h_118,al_c,q_85,usm_0.66_1.00_0.01,enc_avif,quality_auto/0327103226.png)
![그림3.png](https://static.wixstatic.com/media/3a169b_fe4e6eb6f04d4bf79ff90a51270d8b0f~mv2.png/v1/fill/w_171,h_125,al_c,q_85,usm_0.66_1.00_0.01,enc_avif,quality_auto/%EA%B7%B8%EB%A6%BC3.png)
![20200327_101716_2.png](https://static.wixstatic.com/media/3a169b_cb6c4ca0c4fc4edbb4f617f8500eb27e~mv2.png/v1/crop/x_0,y_0,w_205,h_135/fill/w_171,h_113,al_c,q_85,usm_0.66_1.00_0.01,enc_avif,quality_auto/20200327_101716_2.png)
![20200327_101716_1.png](https://static.wixstatic.com/media/3a169b_5276ea2e7c8f4473bddcdf46d9d990b3~mv2.png/v1/fill/w_171,h_112,al_c,q_85,usm_0.66_1.00_0.01,enc_avif,quality_auto/20200327_101716_1.png)
1
높은 효율, 광 대역 (10ch)
기존 광 산란 방식 간접 측정 방식 대비 높은 검출 효율 (95% 이상)
최소 0.5 um ~ 999um 광 대역 측정 가능
2
가장 근접한 Real 입자 측정(현존)
직접 표면 먼지 측정 방식,
간접 돌발 먼지 측정 방식 (Sampling),
간단한 HEAD의 교체로 측정 변경 대응
3
편리한 조작, 검출 용도별 Recipe 설정 및 LOG 관리.
각 측정 위치, 물질,재질 별로 조건 설정 차별화, 비교 측정,
Data Management. CSV file 로 각각 Recipe 관리 기능.
4
Area 설정 기능
피 검출 표면을 필요한 면적 만 선택하여 볼 수 있는 설정 기능.
사각형, 원형 크기를 선택하여 특정 부분만 측정 가능
(예 : 카메라 모듈 중 원형 Lens 표면 검사 등)
5
Micro Scope 대용 기능 (Option)
고정형 현미경 대용 가능 → Stand alone Stage 지원 (Option),
수동검사 가능. 조명 Head 변경 및 X.Y.Z 축 이동 가능한 TABLE
지원
6
Liquid Particle Application 지원(Option)
Liquid 중 함유된 입자 총 량 측정 기능
7
다양한 포트 및 연결 지원, 휴대성 확보
무선 LAN, BLUETOOTH, 유선 LAN, HDMI, USB 2.0 /3.0
단자 지원. 배터리 상태 표시 창.